MSD系列小功率直流磁控溅射电源

主要型号：

主要特点：
   A 采用先进的电流型开关电源技术，减小输出储能元件，
同时提高了抑制打火及重启速度，应用在铝靶镀膜优势更为明显。
   B 具备恒流/恒功率模式可选。恒功率模式相对于传统的恒流模式，
更能保证镀膜工艺的重复性。
  C 具有理想的电压陡降特性，自动识别伪打火现象，
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
  D 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
  E 专门为试验型真空设备定制，相对生产型设备的直流磁控溅射电源，
为客户减小电源体积和降低成本
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

直流磁控溅射用于镀制各种金属。

随着科技技术在不断的提高，我们的各方面的东西，都还是比较好的，例如：我们的镀膜电源就是其中的一个，当我们不了解这个东西的时候，如果没了电源就好像没有太阳一样，一切都不能顺利进行了，那么今天真空镀膜电源厂家给大家介绍一下如何选择镀膜电源吧。

选择电镀电源有三个请求：

（1）要契合电镀工艺所请求的标准，包括电源的功率大小、波形指标、电流电压值可调范围等；

（2）是电源自身的牢靠性能，这主要是指构造的合理性、平安性以及线路特性、冷却方式等；

（3）要思索其价钱的性价比。

一个镀种及其一切的镀槽要配置多大的和什么样的电源是施行电镀消费首要的重要工作。实践消费当中肯定肯定电镀电源有两种办法：一种要依据镀液容量来肯定的体积电流密度法；另一种是按受镀面积来计算的单位面积电流密度法。 

所谓体积电流密度，就是依据每升镀液镀液允许经过的蕞大电流来调整整个镀槽需求经过的电流强度，从而肯定所要用的电源蕞大和常规输出的功率。镀铜普通是0.2～0.3A/L，镀镍是0.1～2.5A/L，光亮镀镍是0.3～0.35A/L，酸性镀锌是0.5～0.6A/L，碱性镀锌可达1.2A/L，镀铬是2～3A/L。以镀亮镍为例，600L的镀液蕞大工艺电流可达0.3A/L×600L=180A，这样选用200A的电源即可。

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