MSDP单极脉冲磁控溅射电源

主要型号：

主要特点：
   A 明显改善靶面电荷积累现象，减小溅射表面的打火次数，提高膜层质量。
   B 具有平均电源稳定功能，具有理想的电压陡降特性，
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
   C 空载电压≥1000V，工作电压200~800V。
   D 频率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

单极脉冲磁控溅射适用于金属、合金及石墨等靶材镀制金属膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

真空镀膜电源设备有通用设备、专用设备，通用设备包括机械设备、电气设备、特种设备、办公设备、运输车辆、仪器仪表、计算机及网络设备等，专用设备包括矿山专用设备、化工专用设备、航空航天专用设备、公消防专用设备等。特种设备是指涉及生命安全、危险性较大的锅炉、压力容器（含气瓶）、压力管道、电梯、起重机械、客运索道、大型游乐设施、场（厂）内专用机动车辆。

真空镀膜电源的樶大特色及商品优势：选用了领先的PWM脉宽调制技术，具有杰出的动态特性和抗干扰才能，动态呼应时刻小于10mS。规划有电压、电流双闭环操控电路，可实时对输出电压电流的操控，能有用处理溅射过程中阴极靶面的不清洁导致弧光放电造成大电流冲击导致电源的损坏疑问。选用数字化DSP操控技术，主动操控电源的恒压恒流状况。在起弧和维弧时能主动疾速操控电压电流使起弧和维弧作业更安稳。具有电压陡降特性,可充沛满意磁控溅射的特殊要求。电源的输出电压电流操控精度小于0.2%。具有模拟量操控接口,用户的4-20mA信号能操控电源的电压电流，电源输出4-20mA信号供用户的PLC显现电源的输出电压电流。

电源的功率因数高达0.95，电源功率≥90%。

真空镀膜电源规划有电压、电流双闭环操控电路，可实时对输出电压电流的操控。在起弧和维弧时能主动疾速操控电压电流使起弧和维弧作业更安稳，稳流精度大大进步，能有用节省靶材用量，进步产能，确保镀膜质量。

暂无评价信息！