BP系列脉冲偏压电源

BP系列脉冲偏压电源

商品详情

性能特点

技术参数

主要型号


型号

功率

(kW)

工作

电压(V)

蕞大峰值

电流(A)

外形

尺寸

冷却

方式

BP-10k

10

0-500

20




1单元





风冷

200-1000

10

BP-20k

20

0-500

40

200-1000

20

BP-30k

30

0-500

60

200-1000

30

BP-20k

20

0-500

40





1单元





风水冷

200-1000

20

BP-30k


30

0-500

60

200-1000

30

BP-40k

40

0-500

80

200-1000

40

BP-50k

50

0-500

100

200-1000

50


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主要特点:
   A具有行动稳定电压功能,具有理想的电压陡降特性,有效抑制工件表面打火,
明显提高镀件的成品率、表面光洁度和膜层结合力。
   B 通过适当调节占空比,可改善和控制成膜速度和温度,
增加膜层结合力,提高沉积率。
   C 分高压档/低压档两档,高压档适用于辉光清洗和离子轰击,
低压档适用于镀膜时的离子加速。
   D 频率40kHz,占空比20%~80%。
   E 可选择手动控制/模拟量接口控制,可选配RS485通讯接口。
采用先进的PWM脉宽调制技术,使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件,
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠,生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统,充分保证镀膜工艺的重复性,并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能。
具有极佳的负载匹配能力,既保证了靶面清洗工艺的稳定性,又提高了靶面清洗速度;主要参数均可大范围连续调节;
方便维护,可靠性高;
PLC接口和RS485接口扩展功能,方便实现自动化控制。


主要用途:

BP系列脉冲电源主要用于多弧离子镀膜、磁过滤电弧离子镀膜、直流磁控溅射镀膜、孪生中频磁控溅射镀膜及等离子体增强化学气相沉积等。主要作用包括:被镀工件表面的辉光清洗、镀膜前的离子轰击和镀膜时的离子加速等。



真空镀膜技术我们都不陌生,真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。虽然真空镀膜技术工业化的时间并不长,只有短短的十余年时间,但其发展相当迅速。作为一种环保无公害的技术,特别是在节约能源、降低成本、扩大塑胶附加功能等方面日益显示出它的众多优越性。在日常生活和科学技术上起到的作用也日益显著,越来越受到广大科技研发人员的重视和欢迎。市面上的产品也是频繁多种的,价格也是五花八门的,我们要怎么选择呢?如何用适中的价格卖质量好的电镀电源呢?


选择真空镀膜电源有几个要求:


(1):要符合电镀工艺所要求的规范,包括电源的功率大小、波形指标、电流电压值可调范围等;

(2):是电源本身的可靠性能,这主要是指结构的合理性、安全性以及线路特点、冷却方式等;

(3):要考虑其价格的性价比。

(4):体积小、重量轻,体积与重量为可控硅电镀电源的1/5-1/10,便于您规划、扩建、移动、维护和安装。

(5):在购买之前,也要考虑一个售后的问题,每个电镀电源都是有保修时间的,更要考虑的是一个售后的问题,一个好的厂家,售前售后都是很重要的,对于消费者也是很重要的。


电源的稳定性是很重要的,一个好的电源能给你带来很大的工作效率,但是一个稳定性不好的电源不仅仅是工作起来没效率,甚至还会给你造成损失,所以如何选择一个更好的电源是很重要的。


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