MSD系列直流磁控溅射电源

主要型号：

主要特点：
   A 采用先进的电流型开关电源技术，减小输出储能元件，
同时提高了抑制打火及重启速度，应用在铝靶镀膜优势更为明显。
   B 具备恒流/恒功率模式可选。恒功率模式相对于传统的恒流模式，
更能保证镀膜工艺的重复性。
  C 具有理想的电压陡降特性，自动识别伪打火现象，
充分满足磁控溅射工艺过程的连续性。
  D 主要参数可大范围调节
  E 可选择手动控制/模拟量接口控制，可选配RS485通讯接口。
  F 采用进口大功率IGBT&MOS模块
采用先进的PWM脉宽调制技术，使用进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，
体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，生产工艺严格完善。
该系列产品采用先进的DSP控制系统，充分保证镀膜工艺的重复性，
并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能，
具有极佳的负载匹配能力，既保证了靶面清洗工艺的稳定性，又提高了靶面清洗速度；
主要参数均可大范围连续调节；
方便维护，可靠性高；
PLC接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

主要用途：

直流磁控溅射用于镀制各种金属

真空镀膜技术我们都不陌生，真空镀膜电源就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。它在塑料制品上的应用最广泛，不少真空镀膜机厂表示，塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用。

1、电控柜的操作

1)开水泵、气源

2)开总电源

3)开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。

4)开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。

5)观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。

2、DEF-6B电子枪电源柜的操作

1)打开总电源

2)同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。

3)开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。

3、关机顺序

1)关高真空表头、关分子泵。

2)待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。

3)到50以下时，再关维持泵。

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